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2009年1月28日

Press Release

全固体 連続発振 355 nmレーザをリリース

コヒレント社(米国カルフォルニア州サンタクララ:NASDAQ上場)は、2009年1月27日全固体連続発振UVレーザGenesisTM355(波長:355 nm、出力:40, 60, 80, 100 mW)をリリースした。

Genesis 355は、光励起半導体(OPSL)技術を採用した連続発振のUVレーザで、優れたビーム質(M2<1.2)と低ノイズ(<0.5% rms)を実現する理想的な全固体レーザである。 ちなみに、この新製品は、すでにフローサイトメトリーやコンフォーカル顕微鏡のようなUVレーザを用いるバイオ応用において、搭載試験を繰り返し、その性能と信頼性の高さは実証済である。

これまで、連続発振UVレーザ(350 nm付近)を使用する場合、従来技術のガスレーザ、もしくは擬似CW全固体モードロックレーザから検討されていたが、モードロックレーザは、kWレベルを超えるピークパワーを発生させるため、バイオ用途での使用に限界が生じていた。

Genesis 355は、完全連続発振のレーザであり、低ノイズ発振を実現するため、フローサイトメトリー応用に最適な光源である。この応用にモードロックレーザを使用した場合、そのピークパワーがソートした細胞のDNAに致命的なダメージを与える危険性がある。また、コンフォーカル顕微鏡用途では、HoechstやIndo等の色素を最適に励起するために、短い波長と低いM2ビームを必要とするため、Genesis 355は適している。さらには、これまで水冷イオンレーザが使用されていた、ディスクマスタリング、干渉露光、直接描画やラマン分光、非破壊検査などの用途でも小型で低消費電力を実現するGenesis 355は理想的な置き換え光源である。

主な仕様

  • 波長: 355 nm
  • 出力: 40, 60, 80, 100 mW

アプリケーション

  • フローサイトメトリー
  • コンフォーカル顕微鏡
  • ラマン分光
  • 半導体非破壊検査
  • ホログラフィー
  • ディスクマスタリング
  • 直接描画、干渉露光応用
  • 研究開発

特長

  • 優れたビーム質
  • 低ノイズ

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