真空蒸着装置 VX-30
小型で広い設置面積を必要とせず、構造を簡略化して操作しやすいように考慮され、しかもMBE、MOMBEによるエピタキシー膜の生成など、高度なパフォーマンスが期待できる優れた真空装置です。
仕様
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メインチャンバー
１．到達圧力
10
-6
Pa台
２．基板寸法
2インチ
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オプション
３．基板加熱温度
ランプヒーター（〜500℃）、Taヒーター（〜800℃）
４．排気系
TMP210L/sec R.P162L/min
５．横型セル
ルツボ容量 1cc / 最高加熱温度1600℃（3分間）
