光ヘテロダイン干渉変位計 変位の高分解測定が可能(1〜10nm) 微小スポットでの測定が可能(≦φ10μm) 静止状態(DC)からの変位・振動測定が可能 長作動距離・離れた位置からの測定が可能(0〜500mm) 光ヘテロダイン干渉法と従来の干渉計測法 従来の干渉計測法は、測定物体からの反射光と同じ周波数の基準光を干渉させることによって生じる直流的な干渉縞の強度から測定物体の変位等を測定する方式である。装置は、簡単に構成できるが、光源の光量変動の影響を受けやすく高分解能化が容易ではない。精度は、光の波長の1/10以上に上げることは容易ではないが、光ヘテロダイン干渉法は、この精度を格段に高めることができる。使用する光源波長の1/100を越える精度が得られる干渉法である。 光ヘテロダイン干渉法は、基準光に測定物体からの反射光に対してわずかに周波数の異なる(数kHz〜数百MHz)光を用いて干渉させ、従来の干渉法の直流的な干渉縞に交流のオフセット周波数(ビート周波数)を与え、この交流信号の位相変化から物体の変位等を測定する方式である。装置は複雑になるが、電気的な位相計を用いることが可能なため高分解能が得られる。また、光源の光量変動の影響を受けにくく、低反射率の物体でも測定できるという特長を有している。 特長 変位測定・振動測定，且つレーザ干渉測長器としての測長が可能 静止状態(DC)から20kHzまでの測定が可能 低周波領域の微小変位(振動)測定が可能 オプションソフトにより速度・加速度測定，FFTによる周波数解析が可能 用途 圧力センサー、ピエゾ素子、磁気バイメタルなどの変位測定及び共振点測定 STM、AFMなどの各種検査装置の移動機構の送りムラ測定、測長及び変位測定 マイクロマシンの微小変位測定・振動解析・周波数解析 液晶硝子・シリコンウェハー表面の表面度・うねり・表面あらさ測定 各部の名称 測定データ 特殊石定盤の振動 変位表示 スピーカーの振動(f=0.05Hz) 変位表示 圧電素子の振動(f=2KHz) 変位表示 特殊石定盤の振動 周波数スペクトル(変位) スピーカーの振動 周波数スペクトル(速度) 圧電素子の振動 周波数スペクトル(加速度) 仕様 項　　目 仕　　　様 　 HS-1100 HS-2100 HS-3100 測定項目 微小変位、振動、測長、平面度 　 測定範囲 微小変位：±5.12mm 　　(レンズ使用の時) 測長：0〜10.0m 微小変位：±2.5mm 　　(レンズ使用の時) 測長：0〜5.0m 微小変位：±0.512mm 　　(レンズ使用の時) 測長：0〜1.0m 測定精度 ±0.1ppm ±0.1ppm ±0.1ppm 最小分解能 0.01μm 0.005μm 0.001μm 測定時間 2.0μsec 2.0μsec 2.0μsec 測定周波数 DC〜20kHz DC〜20kHz DC〜20kHz 最大検出速度 100mm/s 50mm/s 10mm/s 光　　源 周波数安定化He-Neレーザ 　 ビーム径 微小変位：スポット 　ビームφ0.20mm以下 測長：φ0.8mm 差動距離 250〜500mm 試料反射率 正反射光量0.5％以上 試料表面形状 微小変位：正反射光量 　0.5％以上光沢面 測長：鏡面 出　　力 デジタル、アナログ、TTLレベル出力 使用温度範囲 10〜40℃ 使用湿度範囲 35〜75％RH 使用電源電圧 AC100V　500VA　50/60Hz 外観寸法 ファイバープローブ 　50(W)×35(H)×157(D)mm シグナルプロセッサ 　430(W)×150(H)×500(D) 重　　量 プローブ　　約0.7kg プロセッサ　約25.0kg 変位計測定領域 この他、面内変位計(横変位)も製作致します。 また、光ヘテロダイン干渉変位計の技術資料を別に用意いたしております。 ご希望の方は、別途ご請求下さい。 オプション製品 品　　　番 　 HS-5001 ドプラーユニットボード HS-5003 マイクロスポットレンズ 作動距離：110mm スポット径：φ50.0μm HS-5004 マイクロポットレンズ 作動距離：32mm スポット径：φ10.0μm FP-5020 差動型ファイバープローブ FP-5090 ファイバープローブマウントセット HS-5125 反射テープ HS-5210 データ処理装置 HS-5250 ソフトウェア HS-5310 パラレルインターフェースボード HS-GPIB GP-IBインターフェース HS-232C RS-232Cインターフェース HS-5350 大気圧センサー HS-5400 専用顕微鏡　倍率400×　落射照明付 　 専用顕微鏡400倍 及び真空セル付の変位計