CMP用二次元研磨装置
★資料請求番号 N775B

6インチ、8インチウエハーの研磨むらを効率よく修正します。
ジョイスティックにより試料位置を制御できるXYテーブルと、空圧により上下する研磨ディスクから構成されています。




XYテーブル 試料ホルダー 200mmφ
可動範囲 300mm×200mm X:200 Y:300
移動速度 100mm/sec max
ジョイスティック 連続可変
耐荷重 30kg
研磨ディスク 20〜100mm
スピンドル回転 2000rpm max
上下移動範囲 50mm
空圧 8kg
本体 塩ビカバー 標準装備
寸法 750mm(W)×1020mm(D)×1402mm(H)
重量 250kg
電源 100V 15A


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