• 単独に調整可能な2つの中空陽極放電(HAD)イオン源によって、安定したビームを常に供給し、迅速なミリングが可能
• コンパクトなテーブルトップタイプ
• マスフローコントローラにより、アルゴンガスの流量を自動調整
• ターボポンプによる真空システム
• イオン偏位システム(IDS)により低角度(0〜45°)でのミリングが可能
• 液体窒素冷却システム(8〜11時間対応)
• ミリング工程のプログラミングが可能
• レーザー光によるオートターミネーションシステム
• CCDカメラ(100〜2000倍)または顕微鏡(45倍)による試料観察が可能
• 特殊専用冶具によりSEM用断面試料(X,Y,Z軸の移動調整)の作成が可能(上下±3mm,左右±5mm)(ワークサイズ Max8×14mm)
• 特殊専用冶具により横軸(Max.8mm幅)のSEM用断面試料研磨(X,Y軸の移動調整)の作成が可能(上下±3mm,左右±5mm)

制御システムとソフトウエアー

操作は標準装着されたパソコンにミリング条件を入力して行います。 全ての操作は4つ(イオンミルプログラム、デュワーベイクアウトプログラム、 レーザー検出キャリブレーションプログラム、データ処理プログラム)の それぞれ独立したプログラムを介して制御されます。

イオン源

イオンミリングは適正な位置に置かれ上下の試料片表面に焦点を合せる 中空陽極放電(HAD)の2つのイオン源によって行われます。 このHADイオン源は物理的にサイズが小さく、微量のガスを必要とするだけで イオンビームの高い電流密度を生じ、また高イオンエネルギーゆえ 低角度のミリングも迅速にかつ、常に安定したイオンビームを供給します。 0.5kvから6.0kvまでの加速電圧と3mAから8mAの電流がプログラムできるので、 最適なミリング条件を作り出すことができます。 また、耐久性に優れたモリブデン製のユニークな低角用試料プレートの採用により、 あらゆる材料の試験片についてダメージなく優れた試料を作り出すことができます。 イオン源は2つの高電圧出力モジュールを介して個別に制御されます。

ガス制御

フィードバック制御回路に入っている2つのマスフローコントローラによって ガスは自動的に制御されます。多様なイオン源作動条件とミリングパラメータに対して 常に安定したイオンビームを供給します。

真空

70リッターのターボモレキュラー真空ポンプを採用しております。 HADイオン源のガス使用量が微量であるため、501psiのターボモレキュラーポンプは 1×10^-4トールから5×10^-5トールのシステム作動真空を作り出します。 真空レベルはピラニ真空計で測定し、モニターに連続的に表示されます。

液体窒素ステージ冷却

通常、試験片の加熱はミリング角度とイオンエネルギーを小さくすることにより ある程度までは軽減できますが、温度に影響を与える試験片には冷却が必要不可欠です。 試験片の冷却は液体窒素デュワーアッセンブリを取り付けることにより 容易に行うことができます。デュワーの容量は補充なしで連続8〜11時間ミリングできます。 これは、一般的にほとんどの試験片をミリングするのに十分な量です。 液体窒素冷却システムはマイクロプロッセッサを通じて完全に組み込まれており 銅のロッドを通じてマイナス120℃まで試料ステージの温度を下げることが可能です。

終了システム

ミリング工程はタイマーまたはレーザー終了システムにより自動的に終了させることができます。 モデル1010はレーザー光の試験片透過を検出する光検出器を採用しております。