レーザー回折・散乱方式で粒子の粒子径および分布状態を測定する装置です。取り扱いが簡単で、数分程度の短時間で再現性良く測定することができます。溶液中に分散して測定する湿式タイプ、圧縮空気で送り込んで測定する乾式タイプ、両方の機能を一台の中に納めた 2in1(湿式/乾式両用タイプ)の3タイプが各装置にあります。 レーザー回折・散乱+画像処理式粒度分布測定装置(シーラス社)　CILAS 1180 レーザー回折・散乱式粒度分布測定装置に画像処理システムを組み合わせた装置です。0.04〜500μm範囲の粒度分布を同時に高精度で測定します。 0.04〜500μmはレーザー回折・散乱方式で測定します。300〜2500μmは特許のFFT技術 (Fast Fourier Transform) を使って画像処理しますので、短時間で高精度に測定できる画期的な装置です。 レーザー回折・散乱式粒度分布測定装置(シーラス社)　CILAS 1064 特許の半導体ダブルレ-ザーシステムにより0.04〜500μm範囲の粒子を高精度、高分解能で測定します。光学ベンチはショートタイプを採用していますので、光軸のズレは無く光軸調整は不要です。このため取り扱いが簡単で、いつでも再現性の良い安定したデータが得られます。 汎用型レーザー回折・散乱式粒度分布測定装置(シーラス社)　CILAS 92 一般的な工業粉末の製造管理,品質管理に最適で経済的な粒度分布測定装置です。1半導体レーザーで 0.3〜400μm範囲の粒子を測定します。光学ベンチはショートタイプを採用していますので、光軸のズレは無く光軸調整は不要です。このため取り扱いが簡単で、いつでも再現性の良い安定したデータが得られます。