特　長 使い易く精度の高い研磨機で、研究開発用試料作りに最適です。 金属と高分子から成る特殊研磨盤(MM盤、ケメット盤)やクロスを使用し、それにダイヤモンドスラリーを噴霧する方式のため、効率良く平面度の優れた研磨が行えます。 研磨精度は平坦度λ/10以下、表面荒さ0.01μ以下が容易に得られます。 エッジだれが無く、介在物の脱落も無いのでEPMA等での評価に最適です。 また、ICの断面、傾斜研磨、LN等の光学結晶の端面の研磨にも最適です。 ダイヤモンドは自動的に噴霧し、タイマー、スピードコントローラを持っているので各工程は自動的に進み経済的です。 お客様のニーズに合った豊富なアクセサリー群が用意されています。 仕様・本体 大きさ : 横幅360mm×奥行540mm×高さ315mm 重　量 : 25Kg 研磨盤 : 200mmφ 回転数 : 0〜150rpm(アナログコントローラ) 回転表示 : 目盛表示 タイマー : デジタルタイマー(秒、分、時間の切り換え可0〜99.9H) モータ : スピードコントロールモータ 50W 入力電源 : AC100V 50/60Hz 付属装置用AC電源 : 裏面にタイマー連動のコンセント1個 アクセサリー取付 : 2箇所 排水口 : 右面に外径21mmφ、排水ホース外径27mmφ プラスチックカバー : オプション