特　長 標準形とは全く考え方を異にし、装置の上に基準盤を持ってきてその上に研磨盤を乗せた形をとっています。それにより研磨盤の面修正や汚れを除くフェーシング装置を取り付けることができます。又基準盤が広いので、アタッチメントの取り付けが自由に行えます。回転表示がデジタルになっており、研磨を定量的に再現性よく行えます。 使い易く精度の高い研磨機で、研究開発用試料作りに最適です。 金属と高分子から成る特殊研磨盤(MM盤、ケメット盤)やクロスを使用し、それにダイヤモンドスラリーを噴霧する方式のため、効率良く平面度の優れた研磨が行えます。 研磨精度は平坦度λ/10以下、表面荒さ0.01μ以下が容易に得られます。 エッジだれが無く、介在物の脱落も無いのでEPMA等での評価に最適です。 また、ICの断面、傾斜研磨、LN等の光学結晶の端面の研磨にも最適です。 ダイヤモンドは自動的に噴霧し、タイマー、スピードコントローラを持っているので各工程は自動的に進み経済的です。 お客様のニーズに合った豊富なアクセサリー群が用意されています。 仕様・本体 大きさ : 横幅350mm×奥行440mm×高さ240mm 重　量 : 25Kg 研磨盤 : 200mmφ 回転数 : 0〜150rpm連続可変(アナログコントローラ) 回転表示 : デジタル表示 タイマー : デジタルタイマー(秒、分、時間の切り換え可0〜99.9H) モータ : スピードコントロールモータ 75W 入力電源 : AC100V 50/60Hz 付属装置用AC電源 : タイマー連動1個 アクセサリー取付 : 2箇所 プラスチックカバー : オプション