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ナノサイエンス 株式会社     表面分析受託サービス、UHVスタンダード、顕微鏡用倍率補正スタンダード



〒170-0013 東京都豊島区東池袋1-10-1 住友池袋駅前ビル7F

TEL.03-5396-0531(代) FAX.03-5396-1930

E-Mail : analysis@nanoscience.co.jp

ナノサイエンスのホームページ
http://www.nanoscience.co.jp


Evans Analytical Group

各種表面分析バブルチャート(pdf:800kB)
分析サービス

●不純物分析(定量、定性、面内分布、キャリア濃度、汚染、有機物など)

  • SIMS (二次イオン質量分析)
  • GDMS (グロー放電質量分析)
  • TOF-SIMS (飛行時間型二次イオン質量分析)
  • TXRF (全反射蛍光X線分析)
  • LEXES (低エネルギーX線分析)
  • SRP (広がり抵抗測定)
  • ICP-OES (高周波誘導結合プラズマ発光分析)
  • LA-ICPMS (レーザー照射型 誘導結合プラズマ質量分析)
●組成分析(組成、膜厚、密度、結合状態、微小異物、マッピングなど)
  • RBS (ラザフォード後方散乱分析)
  • HFS/EDRA (水素前方散乱分析)
  • NRA (核反応分析)
  • AES, 300mm wafer AES (オージェ電子分光分析)
  • XPS/ESCA (X線光電子分光分析)
  • TEM-EDX (透過型電子顕微鏡)
  • XRR (X線反射率測定)
  • EPMA (電子プローブ微小部分析)
●形態観察/構造解析(形状、膜厚、構造、欠陥観察、結晶性、結合状態など)
  • FE-SEM (走査型電子顕微鏡)
  • AFM/SCM (原子間力顕微鏡/走査型容量顕微鏡)
  • TEM (透過電子顕微鏡)
  • XRD (X線回折)
  • μFTIR (フーリエ変換赤外分光分析)
  • Raman (ラマン分光分析)
●残量ガス分析(金属、合金、セラミックス中のH,C,N,O,S)
  • IGA (ガス成分分析)
●半導体パッケージ中のガス分析(MIL規格)
  • GCMS (ガスクロマトグラフ質量分析)
表面分析用 UHV スタンダード

顕微鏡用倍率補正スタンダード

    MRS-3
    MRS-4  詳細パターン例  各パターンの位置  リテーナーにマウントされた状態
    NEW MRS-5
    


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 ☆ご質問・ご要望などは、ナノサイエンス(株) analysis@nanoscience.co.jpまで

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