ナノサイエンス
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ナノサイエンス　nano
ナノサイエンス株式会社
表面分析受託サービス、
UHVスタンダード、
顕微鏡用倍率補正スタンダード
Evans Analytical Group 
各種表面分析バブルチャート(pdf:800kB) 
分析サービス
不純物分析(定量、定性、面内分布、キャリア濃度、汚染、有機物など)
SIMS (二次イオン質量分析) 
GDMS (グロー放電質量分析) 
TOF-SIMS (飛行時間型二次イオン質量分析) 
TXRF (全反射蛍光X線分析) 
LEXES (低エネルギーX線分析) 
SRP (広がり抵抗測定) 
ICP-OES (高周波誘導結合プラズマ発光分析) 
LA-ICPMS (レーザー照射型　誘導結合プラズマ質量分析) 
組成分析(組成、膜厚、密度、結合状態、微小異物、マッピングなど)
RBS (ラザフォード後方散乱分析) 
HFS/EDRA (水素前方散乱分析) 
NRA (核反応分析) 
AES, 300mm wafer AES (オージェ電子分光分析) 
XPS/ESCA (X線光電子分光分析) 
TEM-EDX (透過型電子顕微鏡) 
XRR (X線反射率測定) 
EPMA (電子プローブ微小部分析) 
形態観察/構造解析(形状、膜厚、構造、欠陥観察、結晶性、結合状態など)
FE-SEM (走査型電子顕微鏡) 
AFM/SCM (原子間力顕微鏡/走査型容量顕微鏡) 
TEM (透過電子顕微鏡) 
XRD (X線回折) 
μFTIR (フーリエ変換赤外分光分析) 
Raman (ラマン分光分析) 
残量ガス分析(金属、合金、セラミックス中のH,C,N,O,S)
IGA (ガス成分分析) 
半導体パッケージ中のガス分析(MIL規格)
GCMS (ガスクロマトグラフ質量分析) 
GELLER
表面分析用　ＵＨＶ　UHVスタンダード 
顕微鏡用倍率補正スタンダード 
MRS-3,MRS-4,MRS-5
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