スケール仕様	最密ピッチパターン 2μm、50μm、500μm 精度 +/-　0.5μm　（500μmピッチ） +/-　0.1μm　（2μmピッチ）
パターン高さ	0.1μm
外　形	9.0 x 9.0 x 2.3mm（サイズの変更も可能）
適用倍率	10倍〜50,000倍
適用顕微鏡	SEM（二次電子像、反射電子像）、TEM（反射電子像）、 AFM、STM、触針段差計、光学顕微鏡
適用補正	ディストーションの補正 ティルトアングルの補正 CRTとレンズ焦点補正
基　板	シリカガラス上にCr（70nm)/CrO2(30nm)の膜パターンニング

顕微鏡用倍率補正スタンダード
(光顕及びSEM用テストパターンスタンダード)
米国ゲラー社製　Model MRS-4

スケール仕様	最密ピッチパターン 0.5μm、1μm、2μm、50μm、500μm 精度 +/-　0.25μm　（500μmピッチ） +/-　0.04μm　（0.5μmピッチ）
パターン高さ	0.1μm
外　形	9.0 x 9.0 x 2.3mm（サイズの変更も可能）
適用倍率	10倍〜200,000倍
適用顕微鏡	SEM（二次電子像、反射電子像）、TEM（反射電子像）、 AFM、STM、触針段差計、光学顕微鏡
適用補正	ディストーションの補正 ティルトアングルの補正 CRTとレンズ焦点補正
基　板	シリカガラス上にCr（70nm)/CrO2(30nm)の膜パターンニング

MRS-4　各パターンの位置
＊ピッチとは、「ライン＋スペース」の合計を表す。

リテーナーにマウントされた状態

リテーナーサイズ：25mm径 x 3mm厚 ＊中心部の9mm角のくぼみに、MRS（9mm角)が固定されています。 ＊特注サイズのリテーナー作製可能。（別途見積り）

　　　

NEW!!　 顕微鏡用倍率補正スタンダード
(光顕及びSEM用テストパターンスタンダード)
米国ゲラー社製　Model MRS-5

＜MRS-5　仕様＞ ・ サイズ：2mm x 2mm x 0.5mm ・ 材質：SiO2/Si基板上にタングステン膜(100nm厚さ)のパターン ・ ピッチ定義：線とスペースを合わせた距離 ・ トレーサブル品（MRS-5、キャリブレーション付） 　 または、ノントレーサブル品（MRS-5NT、キャリブレーションなし）の２種類 ＜較正＞ ・ MRS-5は、英国国立物理研究所（NPL）によって較正されています。 　 NPLは米国NISTと類似した機関です。

＜パターン構成＞ Pattern ピッチ間隔　（線と隙間部分の幅） 巣状Box 2μm 1μm 500nm 200nm (4個) 100nm (4個) 80nm (4個) 3バーパターン 3μm 2μm 1μm 1.5μm 1μm 900nm 800nm 700nm 600nm 500nm 400nm 300nm 200nm 100nm 80nm (最小)

100nm pitch-Boxパターン図：X 30,000

100nm pitch Boxパターン図：X 100,000