1.　超高真空中試料のクリーニング

　写真1は、Ｘ線光電子分光装置に取付け使用されている例である。写真中央上部の細長い形状をした部分がクリーン加熱の熱源、赤外線導入加熱装置「ＧＶＨ型」である。試験試料のクリーン加熱は、その下部の円筒状予備室内(超高真空中)で赤外線照射受けて昇温、不純物を放出する。クリ ーン化した試験試料は大気に暴露することなく、そのまま超高真空中を搬送機構により右側の分析室に搬送される。大気暴露による汚染が防止され、クリーンな試料のまま高精の分析が可能となる。

2.　酸化物薄膜の作成例

　遷移金属酸化物薄膜の作成法にはPLD法(原料に紫外線レーザーをパルス的に照射し、瞬間的に分解・蒸発させ、基板に堆積する方法)があるが、酸化物をエピタキシャル成長させるには基板を高酸素圧雰囲気中で高温度に加熱する必要がある。図はその概念図で、写真2は基板加熱用として赤外線導入加熱装置(写真上部)を取り付けられた例である。

3. Ｘ線照射中試料の加熱

　兵庫県のSpring‐８で使用されている製品が写真３である。高真空中でＸ線照射中に試料を超高温まで昇温し、Ｘ軸，Ｙ軸，Ｚ軸の回転移動ができる。また、昇温・保持・降温状態での結晶構造の分析もできる。赤外線を試料の表裏の両面から照射し昇温する機構で、試料に照射する入射Ｘ線や、回折線の通過に支障を与えない。