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赤外線加熱方式を用いた研究例の紹介

研究テーマ発表者使用機種
SiC素子の基礎と応用
P-110 RTA装置 2003年3月26日 オーム社
電子技術総合研究所
荒井和雄、吉田貞史
RTA装置
超高温PLD装置によりヘテロエピタキシャル成長させたGa2O3薄膜
 応用物理学会 2001年春 29a-P4-5
科技団透明電子活性PJ
折田政寛、細野秀雄
GVL298
TMSと水素混合ガスRFプラズマによるSiC膜堆積
 応用物理学会 2001年春 31a-P15-9
室蘭工業大学
越後裕介、伊藤秀範
GV154
超高温・超高速熱アニール処理による4H-SiCへの低抵抗n+型イオン
注入形成 ETL NEWS 2001.2 Vol.613
電子技術総合研究所
福田憲司、荒井和雄
GVL398
リニア型高速熱処理法による薄膜配向性の制御
 社団法人 電子情報通信学会
The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers 
TECHNICAL REPORT OF IEICE OME 99-50 (1999-07)
山梨大学工学部
土屋直人、中川恭彦
IR2000GV
超高真空反射型電子顕微鏡の開発[U]赤外線試料加熱装置
 応用物理学会 1996年春 28a-ZT-5
大阪大学
秋田知樹、志水隆一
IR-1000GVH
真空中酸素ジェットによるSiの熱酸化
 応用物理学会 1996年春 29p-N-1
東京大学
辻田達男、鳳浩一郎
GVL298
赤外線放射加熱による板ガラスの熱衝撃破壊試験
Journal of Ceramic of Japan 103(9)960-965(1995)
鹿児島大学教育学部
淡路英夫
(株)サーモ理工 遠藤智義
 
BNコーティングによるステンレス鋼膜の水素透過の抑制
 真空 1994年3号
金属材料研究所
板倉明子
IR-1000GV
酸化雰囲気中の光加熱
熱と共に10年の歩み (株)サーモ理工 1992年4月 P-20
武蔵工業大学
服部健雄
IR-1000GV
熱技術25年の歩み 2007年4月 (株)サーモ理工 

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Research by the Infrared Heating Method (Paper in English)

ThemeAuthorModel Used
In situ heat treatment of ultrathin MgO layer for giant magnetoresistance ratio with low resistance area product in CoFeB/MgO/CoFeB magnetic tunnel junctions
Applied Physics Letters 93,192109,2008
S.Isogami, M. Takahashi
/ Tohoku University
GV198
Simultaneous scanning tunneling microscopy and stress measurements to elucidate the origins of surface forces
Review of Scientific Instruments 78,053903, 2007
Tetsuya Narushima, Niall T. Kinahan,
John J. Boland / Trinity College Dublin
GVH398
Predicting the amount of carbon in carbon nanotubes grown by CH4 rf plasmas
Journal of Applied Physics 99,014302,2006
Y. Suda, Y. Sakai / Hokkaido University GVL298
Combined Radiation-Conduction Analysis and Experiment of Ceramic Insulation for Reentry Vehicles
Journal of Thermophysics and Heat Transfer Vol.18,No.1,January-March 2004
National Aerospace Laboratory of Japan GV-2
Activation treatment of impurities using hybrid super RTA equipment. A. Kinoshita, J. Senzaki, M. Katou, S. Harada,
M. Okamoto, S. Nishizawa, K. Fukuda,
F. Morikasa, T. Endou, T. Isii, T. Yashima
AIST, Thermo Riko Co.,Ltd
Nippon Thermonics Co.,Ltd
S-RTA
Pulsed Laser deposition system for producing oxide thin films at high temperature
Review of Scientific Instruments VOL.72,No,8 Aug.2001
M. Orita, M. Ohta, H. Hiramatsu, M. Hirano
/ Japan Science and Technology Corp.
M. Sasaki, T. Katagiri
/ Katagiri Engineering Co.,Ltd
H. Hosono / Tokyo Institute of Technology
GVL298
In situ observation of epitaxial microcrystals in thermally grown SiO2 on Si(100)
Applied Physics Letters,Vol.74,No.18,May3,1999
N. Awaji, Y. Sugita, Y. Horii
/ Fujitsu Laboratories Co.,Ltd
I. Takahashi / Kansei Gakuin University
GV198
Periodic Changes in SiO2 / Si(111) Interface Structures with Progress of Thermal Oxidation
Jpn.J.Appl.Phys.Vol.33(1994)pp. L675-L678
Part2,No.5A,May1,1994
K. Onishi, T. Hattori
/ Musashi Institute of Technology
GVH298
Diffusion of 57 Co in amorphous Fe-RE (RE=Dy,Tb,and Ce) and Fe-Si-B alloys
J.Mater.Res.,Vol.8,No.9,Sep.1993,
1993 Materials Research Society
K. Yamada, Y. Iijima, K. Fukamichi
/ Tohoku University
GV198

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